I dtionscail ar nós micrileictreonaic, optoelectronics agus bithchógaisíochta,annealing geal(BA), picilte nó pasiviú (AP),snasú leictrealaíoch (EP)agus úsáidtear cóireáil thánaisteach folúis i gcoitinne le haghaidh córais phíblíne ard-íonachta agus glana a tharchuireann meáin íogaire nó creimneacha. Táirgí tuaslagtha (VIM+VAR).
A. Tugtar EP ar Leictreasnású (Electro-Polished). Trí shnasú leictriceimiceach, is féidir feabhas mór a chur ar mhórfhoirmiú agus ar struchtúr an dromchla, agus is féidir an t-achar dromchla iarbhír a laghdú go pointe áirithe. Is scannán ocsaíd cróimiam dúnta, tiubh é an dromchla, tá an fuinneamh gar do ghnáthleibhéal an chóimhiotail, agus laghdaítear méid na meán - de ghnáth oiriúnach do ghrád leictreonach.gáis ardíonachta.
B. Tugtar BA ar Ainéalú Geal (Bright Annealing). Ar thaobh amháin, cuireann cóireáil teasa ardteochta i riocht hidriginithe nó folúis deireadh le strus inmheánach, agus ar an taobh eile, cruthaíonn sí scannán pasivithe ar dhromchla an phíobáin chun an struchtúr moirfeolaíoch a fheabhsú agus an leibhéal fuinnimh a laghdú, ach ní mhéadaíonn sí garbhúlacht an dromchla - de ghnáth oiriúnach do GN2, CDA, agus gáis táimhe neamhphróisis.
C. Tugtar AP agus CP ar phíobáin phíobáin phicilte & pasivithe/snasta go ceimiceach (Picilte & pasivithe/snasta go ceimiceach). Ní mhéadóidh picilte ná pasiviú an phíobáin garbh an dromchla, ach is féidir leis na cáithníní atá fágtha ar an dromchla a bhaint agus an leibhéal fuinnimh a laghdú, ach ní laghdóidh sé líon na sraitheanna idirmheánacha – a úsáidtear de ghnáth i bpíobáin ghrád tionsclaíoch.
D. Feadán glan tuaslagtha tánaisteach folúis Is táirge de chuid Sumitomo Metal Company é Vim (Vacuum Induction Melting) + Var (Vacuum Arc Remelting), ar a dtugtar V+V. Rinneadh é a phróiseáil arís faoi choinníollacha stua i riocht folúis, rud a fheabhsaíonn friotaíocht creimeadh agus garbhúlacht dromchla go héifeachtach. Céim - oiriúnach de ghnáth do gháis leictreonacha ard-íonachta atá an-chreimneach, amhail: BCL3, WF6, CL2, HBr, etc. 
Am an phoist: 08 Aibreán 2024